高檢署偵辦台積電二奈米核心關鍵技術竊密案,查出台積電前工程師陳力銘跳槽日商東京威力科創公司(TEL)後,為得知「蝕刻機台」量產測試數據,透過時任台積電工程師吳秉駿、戈一平竊取參數配方,昨依違反國家安全法、營業秘密等罪起訴陳、吳、戈,這是首宗違反國安法竊取國家核心關鍵技術營業秘密案。
由於陳力銘、吳秉駿、戈一平涉及國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪,檢方分別求處七至十四年重刑,三人在押,且均認罪,下周移審智慧財產與商業法院;廖姓工程師等三人僅涉營業秘密法告訴乃論罪,因台積電不提告,檢方予以簽結;至於是否有法人(TEL)及自然人有相關刑責,高檢署分案續查。
台積電昨表示,對於任何違反保護營業秘密及損害公司利益的行為,始終秉持零容忍的態度,絕對從嚴處理,追究到底。台積電說,相信這次偵查結果使得公司珍貴的營業秘密與技術得到充分保護,公司將持續強化內部管理及監控機制,從而保護公司核心競爭力及全體員工的共同利益。
據調查,陳力銘曾任台積電十二廠良率部門工程師,離職後前往台積電的半導體製造設備供應商、TEL行銷部門任職。因東京威力科創有「13E計畫」,也就是想爭取台積電二奈米製程蝕刻站點供應量產機台的資格。
不過,蝕刻機台想要達標,必須在事前通過三關測試,分別是研發測試、試產測試與量產測試。TEL前面兩關測試都通過,唯獨量產能量放大後,始終無法測試過關。
調查指出,陳力銘為替TEL爭取為台積電先進製程更多站點設備供應商,多次找吳秉駿、戈一平幫忙,由吳、戈兩人利用遠端辦公漏洞,使用公司配發筆電,連線登入台積電內網,供陳力銘用手機拍攝台積電測試其他廠商實驗良率數據,俾利TEL檢討改善蝕刻機台表現;但翻拍內容檔案,涉及國家核心關鍵技術。
至於廖姓等三名工程師,則是分別開啟手機電郵、筆電電郵的附加檔案供陳力銘拍攝,但相關參數資料無關台積電核心技術機密,因此僅涉營業秘密告訴乃論罪。
此外,陳力銘想替TEL尋找新的站點推銷蝕刻機台,另要求吳秉駿、戈一平提供台積電廠區的配置流程圖(又稱Flow),但圖檔內有標籤許多機密,被經濟部認定是國家核心關鍵技術。檢調認定,陳力銘翻拍、重製台積電核心技術的測試數據、流程圖檔共十四張。
全案因台積電察覺有異,今年七月八日向高檢署提出告訴,由檢察官劉怡君、朱立豪指揮調查局偵辦。其中,陳力銘涉犯營業秘密法意圖域外使用而竊取營業秘密罪,量處有期徒刑五年;營業秘密法竊取營業秘密罪,量處有期徒刑三年;國安法之國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪,各量處有期徒刑八年,應執行有期徒刑十四年。
吳秉駿涉犯營業秘密法意圖域外使用而竊取營業秘密罪,量處有期徒刑四年、國安法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪,量處有期徒刑七年,應執行有期徒刑九年。戈一平涉犯國安法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪,量處有期徒刑七年。
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